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西瓜膜下微喷（滴灌）技术

西瓜坐果后，根系生长基本处于停顿状态。因此应在西瓜生长前，中期促进根系生长，习惯适宜的灌溉方式有膜下微喷、膜下滴灌等。其中以膜下喷水带为普及。通常一行西瓜安装一条微喷带，孔口朝上，覆膜，砂土对流量要求不高，但黏土要求流量小，否则极易出现地表径流。微喷带的管径的管径与喷水带的铺设长度有关，以整条管带的出水均匀度达到90%为宜。如采用滴灌带，一种植行铺设一条滴灌带，覆膜或者直接铺设在地面。滴头间距30厘米，流量为2升每小时。

  西瓜定植后至采果期一直保持土壤30厘米的深度处于湿润状态。维持土壤均衡的水分状态是防止裂瓜的重要措施。对土壤和砂土可以用简单的指测法来判断土壤的水分状况。在微喷带下取土，当土壤能抓捏成团或搓成泥条时表明水分充足，捏不成团散开表民土壤干燥。通常如果是滴灌每次灌溉2小时左右，如果是采用微喷带喷灌20分钟左右。在有天然降雨的地方，一定要起垄种植，及时排走积水。

  哈密瓜、甜瓜的水肥一体化技术与西瓜类似，水分和养分管理参考西瓜。